Ekvipotenciální práh
Jak
- ekvipotenciální práh je konfigurace uzemnění, zajišťující řízení potenciálu pro ochranu před krokovým a dotykovým napětím
- používá se zejména na hladině vysokého napětí a vyšší
- typicky se zřizuje okolo trafostanic, sloupů vn, apod.
- sestává z jednoho či více vzájemně propojených obvodových zemničů, postupně uložených ve zvětšující se hloubce
- normové požadavky na hloubku uložení se nicméně dost rozcházejí:
- v hloubce od 0,2 do 0,3 m; maximálně však 0,5 m
- v hloubce 0,3 až 0,4 m
- v hloubce 0,5 m
- vnitřní v hloubce 0,4 m, vnější v hloubce 0,7 m
- vnitřní v hloubce 0,6 m, vnější v hloubce 0,8 m
- v hloubce 0,5 až 1 m
- v hloubce 1 až 2 m
- Pozn.: pokud má být ekvipotenciální práh (či alespoň jeho nejhlubší část) v nezámrzné hloubce, pak nedávají smysl hloubky uložení menší jak 0,8 m
Proč
- ČSN IEC 60050-151, 151-15-51
- ČSN EN 61140 ed. 3, čl. 3.34
- ČSN EN 61140 ed. 3, čl. 5.2.8
- ČSN EN 61140 ed. 3, čl. 5.3.9
- ČSN EN IEC 61936-1 ed. 2, čl. 10.2.2
- ČSN EN 50522 ed. 2, Příloha E, uznané opatření M1.2
- ČSN EN 50341-1 ed. 2, Příloha H, čl. H.3.1.1
- ČSN 33 2000-5-54 ed. 3, čl. NA.10.1.2
- PNE 33 0000-1 ed. 7, Poznámka 1 v čl. 3.4.1.1
- PNE 33 3301-1 ed. 2, čl. 7.1
- PNE 33 3301-1 ed. 2, čl. 7.1
- ČSN EN 62305-3 ed. 2, čl. E.5.4.3.4
- zrušená ČSN 33 2000-4-41, Poznámka 1) v čl. 413.1.NB
- zrušená ČSN 33 2050, čl. 3.1.2.1